sciencetalk

Een nieuwe super lens is ontworpen bij Berkely met een resolutie van 60 nanometer. Hiermee kunnen bloedcellen van 400nm grote makelijk worden bekeken.

In de toekomst kan deze methode gebruikt worden om super DVD's te maken met een trackpitch van enkele honderd nanometers. Ofwel, klein.

Bron http://www.physlink.com/News/042205SharperImage.cfm

Een nieuwe super lens is ontworpen bij Berkely met een resolutie van 60 nanometer. Hiermee kunnen bloedcellen van 400nm grote makelijk worden bekeken.

Dat staat er allemaal niet, hoor! Wat wel? Traditioneel kan men in de optica nooit scherper zien dan de golflengte van het gebruikte licht. Ook een lens kan nooit scherper focusseren dan deze golflengte. Daarom kan men details kleiner dan de golflengte niet afbeelden. De golflengte van zichtbaar licht begint bij 400nm, en dat is een tiende van de grootte van een rode bloedcel.

Dat staat er allemaal niet, hoor! Wat wel? Traditioneel kan men in de optica nooit scherper zien dan de golflengte van het gebruikte licht. Ook een lens kan nooit scherper focusseren dan deze golflengte. Daarom kan men details kleiner dan de golflengte niet afbeelden. De golflengte van zichtbaar licht begint bij 400nm, en dat is een tiende van de grootte van een rode bloedcel.

Dit staat er:

Using a thin film of silver as the lens and ultraviolet (UV) light, the researchers recorded the images of an array of nanowires and the word 'NANO' onto an organic polymer at a resolution of about 60 nanometers. In comparison, current optical microscopes can only make out details down to one-tenth the diameter of a red blood cell, or about 400 nanometers.

Precies, dat schreef ik dus: een tiende van de diameter van een rode bloedcel is 400nm, de traditionele resolutie van een lichtmicroscoop.

Overigens is het artikel waar je naar verwijst ook niet erg nauwkeurig, want even lager wordt geschreven dat het hele woordje "nano" 60nm lang is; dat betekent dus dat de resolutie nog VEEEEEL beter is dan 60nm......

voilá

http://www.kennislink.nl/web/show?id=130770

Het is met deze techniek weldegelijk mogelijk om structuren af te beelden die duidelijk kleiner zijn dan de diffreactielimiet. Maar ik zie niet echt hoe je dit wil toepassen: je maakt namelijk een structuur in je fotoresist-laag (ergens "middenin" de laag) en ik snap niet hoe je die gebruiken kan. Je moet dan immers op de een of andere mannier de toplaag van de structuur af zien te halen, zonder dat je je geschreven patroon weg haalt. Snapt iemand hier goed hoe deze techniek werkt en wat je ermee doen wil?

Elmo

vanaf welke post stel jij je vraag,die van mij of van iemand erboven?

(ik las dit artikel namelijk op kennis net en dacht dat het meschien wel handig zou zijn om dit hier even te laten weten m.b.t, wel of nietmogelijk?)

Vanaf deze

Maar ik heb het oorspronkelijke artikel in Science ook gelezen, en ik begrijp niet wat ze hiermee doen willen. Ik zie namelijk niet hoe je de toplaag van de fotoresist netjes weg krijgt. En bovendien heb je nu de ene moeilijkheid (het maken van een kleine structuur in de fotoresist) voor mijn gevoel gewoon vervangen door een andere moeilijkheid (het maken van een kleine structuur in op het kwarts masker)...

Is je vraag hoe ze 60 nm groeven maken in een photoresist substraat?

Door een focus Ion of electron straal bijvoorbeeld, of hoog ultra violette stralen @ 13.5 nm. Daarbij zijn er nog een aantal trukjes om met een grote golflengtes kleiner dan golflengte groeven te maken.

Het laagje fotoresist krijg je weg door het weg te spoelen. Dat wat belicht is "cross-linked" en wordt een vaste materie, dat wat niet belicht wordt blijft dus een vloeistof en kan worden weggespoeld d.m.v een niet reactieve vloeistof.

The average line width of the array of nanowires measured 60 nanometers, and the average line width in the word NANO was about 40 nanometers. The objects, embedded onto a layer of chrome, were placed before the superlens, which was a layer of silver that was about 35 nanometers thick. The researchers recorded the image onto a photoresist, a polymer coating on the other side of the superlens that becomes insoluble when exposed to UV light.

Nee, ik weet hoe ze die groeven maken.

Wat ik bedoel is het volgende:

Ze maken een structuur van Cu op kwarts.

Ze belichten deze via hun zilveren superlens en dus "schrijven" ze deze kleine structuur zo in het fotoresist aan de andere kant van de Ag lens.

De foto-oxidatie van de fotoresist vindt echter niet aan het oppervlak plaats, maar dieper in de laag. Pas op een zodanige diepte dat de near-field golven achter het Ag oppervlak weer constructief interfereren, zal de fotoresist oxideren.

Maar dan heb je dus je nuttige structuur ergens midden in je fotoresistlaag. Hoe krijg je deze vervolgens aan het oppervlak / op een nuttige positie?

Ik vind het maar een raar experiment. Het zou voor mijn gevoel ook veel duidelijker zijn als ze een duidelijk kleinere "NANO" geschreven hadden. Nu vind ik het verschil niet echt duidelijk.

(Tevens verplaatst naar "Optica" om deze leuke discussie niet te verliezen.)

Toevoeging:



De scherpe lijnen in de photoresist worden geschreven op een diepte die ongeveer gelijk is aan de afstand van objects naar superlens, en daar zit de dikte van de PMMA spacerlaag tussen. Deze is 40 nm, en dus worden de scherpe lijnen op een diepte van ongeveer 40 nm (niet precies: de brekingsindices van PMMA en van photoresist zijn wat anders) in de fotoresist geschreven. Wat moet je er dan mee op die diepte????

Ik snap er nog steeds niets van...